超声波清洗是利用超声场所产生强大的作用力，促使物质发生一系列物理、化学变化而达到清洗目的。具有效果好，清洁度高且全部光学零件清洁度一致；清洗速度快，提高生产效率，不须人手接触清洗液，安全可靠等优点逐渐代替了传统的手工清洗及精擦操作，使清洗及精擦的效率成倍或十多倍的提高，为光学工业生产辅助工序实现机械化、自动化提供了条件。

光学零件清洗工艺从整体流程看通常可分为四道工序：洗涤、漂洗、脱水、烘干。具体流程如下： 洗涤主要是利用有机溶剂对光学零件表面进行湿润、渗透、乳化而达到综合的作用，从而达到对各类污垢进行溶解，去除的效果；，漂洗通过纯水对光学零件表面的冲洗及超声作用，使洗涤后残留在光学零件表面的洗涤剂溶解、稀释和去除的作用；清洗温度升高时，对空化的产生有利，漂洗效果较好，但是温度过高气泡中的蒸气压增大，空化强度会降低，所以温度的选择要考虑对空化强度的影响也要考虑清洗液的化学清洗作用；，脱水是经漂洗后的光学零件表面含有大量水分，进入有机溶剂的脱水剂中进行脱水，和水能充分混溶；烘干的过程大略如下：干燥剂蒸汽在光学零件表面冷凝为液体一干燥剂液体和光学零件表面的脱水剂形成共沸物一一部分共沸物形成蒸汽离开光学零件表面一一部分共沸物以液体的状态流经光学零件表面对光学零件起冲洗作用；经过这些过程后，光学零件表面洁净、干燥。

为了减少或避免脱水剂等有机溶剂对环境及操作人员身体的影响， 目前的超声波清洗技术已对工艺进行了改良，通过使用纯水漂洗，而省略脱水，漂洗后的光学零件表面为纯水状态，再由异丙醇烘干，既可快速、有效地干燥光学零件，又可避免有机溶剂对环境及工作人员的影响。