高频超声清洗技术的进展

通常情况下，像几微米的污染物，采用常规的超声波清洗器无法很好地祛除污染物。近年我国已经拥有高频超声波清洗技术，在清洗过程中，清洗的物质不仅仅是气泡，而是通过高频压力波来进行去污，去污效果100％。高频超声清洗技术已经广泛地运用在大规模的集成电路芯片上，尤其是硅晶片和陶瓷等方面的特种污染物的清洗。

多频清洗技术的进展

多频清洗技术，从本质上看，就是在清洗槽中安装两种或者三种以上的换能器，通过多只发生器推动各个频率上的换能器。在清洗器工作频率较高的情况下，液体中的空化强度低而空化密度大，而工作频率低时，这种情况则是完全相反的。我们可以充分利用低频超声波强度高的特点，对物体表面进行清洗。根据高频超声波空化密度高的特点，可以利用冲击波贯穿细缝和深孔等细微结构，利用多种频率，有效地克服清洗不彻底的问题。

在某种程度上看，只有深入分析超声波的清洗原理，并对其进行各个领域方面的研究，对当前超声波清洗技术发展的情况作出深入阐述，才能更好地推动超声波技术的稳健发展。